Gerätedetails
NanoFrazor
NANOFRAZOR SCHOLAR
Lithographie
Photolithographie
Heidelberg Instruments
Nanostrukturierung für verschiedene Anwendungen
Strukturierung
- Minimale Strukturgröße 20 nm
- Minimale Linien- und Abstandsbreite (half pitch) 30 nm
- Schreibfeldgröße (XY) 60 μm x 60 μm
- Schreibgeschwindigkeit (50 nm pixel) 500 μm²/min
Abbildung
- Laterale Bildauflösung (feature size) 10 nm
- Vertikale Auflösung (topography sensitivity) <0.5 nm
Systemeigenschaften
- Substratgröße 1 x 1 mm² bis 100 x 100 mm²
FAM 346
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