Gerätedetails

NanoFrazor
NANOFRAZOR SCHOLAR
Lithographie
Photolithographie
Heidelberg Instruments

Nanostrukturierung für verschiedene Anwendungen

Strukturierung

  • Minimale Strukturgröße 20 nm
  • Minimale Linien- und Abstandsbreite (half pitch) 30 nm
  • Schreibfeldgröße (XY) 60 μm x 60 μm
  • Schreibgeschwindigkeit (50 nm pixel) 500 μm²/min

Abbildung

  • Laterale Bildauflösung (feature size) 10 nm
  • Vertikale Auflösung (topography sensitivity) <0.5 nm  

Systemeigenschaften

  • Substratgröße  1 x 1 mm² bis 100 x 100 mm²
Zscharschuch, Jens
T: (0351) 260 3706 / 463 32448
FAM 346

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