Gerätedetails

Nanostrukturierung für verschiedene Anwendungen

Strukturierung

• Minimale Strukturgröße 20 nm
• Minimale Linien- und Abstandsbreite (half pitch) 30 nm
• Schreibfeldgröße (XY) 60 μm x 60 μm
• Schreibgeschwindigkeit (50 nm pixel) 500 μm²/min

Abbildung

• Laterale Bildauflösung (feature size) 10 nm
• Vertikale Auflösung (topography sensitivity) <0.5 nm  

Systemeigenschaften

• Substratgröße  1 x 1 mm² bis 100 x 100 mm²